광택 공예

광택 플라스틱 몰드의 기본 절차는 고품질의 연마 결과를 얻기 위해 유석, 사포, 금강석 연마 연고와 같은 고품질의 광택 공구와 부품이 필요합니다.

광택 플라스틱 몰드의 일반적인 절차는 다음과 같습니다.

1. 정밀 광택

정밀 광택은 주로 금강석 연마고를 사용한다.금강석 연마용 파우더나 연마용 연고를 광택 포륜으로 혼합하여 연마하는 경우 일반적으로 9μm(#1800)~6μm(#3000)~3μm(#8000) 순으로 연마됩니다.9μM'；s 금강석 연마고와 광택 포륜은 # 1200과 # 1500 사포가 남긴 모발 모양의 연마 흔적을 제거하는 데 사용할 수 있다.이어 접착펠트와 금강석 연마고로 1μm(#14000)~1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000) 순으로 광택을 낸다.정밀도 요구사항은 1μm 이상(1μm 포함)이다. 광택 과정은 금형 가공 작업장의 클린 광택실에서 할 수 있다.더 정확한 광택을 내기 위해서는 절대적으로 깨끗한 공간이 필요하다.먼지, 연기, 비듬 및 침은 몇 시간 작업 후 얻은 고정밀 광택 표면을 폐기 할 수 있습니다.

2. 난폭하게 던지기

밀링, 방전, 연마 등의 공정을 거친 후, 회전 속도가 35000-40000회전/분인 회전 표면 광택기 또는 초음파 연마기를 사용하여 표면을 광택할 수 있다.일반적인 방법으로는 지름 Φ을 이용하여 3mm, WA #400 바퀴의 흰색 불꽃층을 제거하는 것이 포함된다.그 다음에는 수동 유석을 연마하여 막대 모양의 유석을 등유에 넣어 윤활제나 냉각제로 삼는다.일반 사용 순서는 # 180 ~ # 240 ~ # 320 ~ # 400 ~ # 600 ~ # 800 ~ # 1000 이다.많은 몰드 제조업체는 시간을 절약하기 위해 #400부터 생산을 시작합니다.

3. 반정밀 광택

반정밀 광택은 주로 사포와 등유를 사용한다.사포의 수량은 #400~#600~#800~#1000~#1200~#1500 순이다.실제로 #1500 사포는 금형강 (52HRC 이상) 을 담금질하는 데만 적용되고 예경화강에는 적용되지 않는다. 이는 예경화강 부품의 표면 화상을 초래할 수 있기 때문이다.

4. 세밀한 광택

연마고를 사용하여 정밀 광택을 내어 800010000은 거울 광택을 실현할 수 있다.

광택 방법

기계포광

메커니즘 광택은 재료 표면의 절단과 가소성 변형을 통해 광택 후 볼록한 부분을 제거하여 매끄러운 표면을 얻을 수 있는 광택 방법이다.그것은 보통 오일 스톤, 양털 바퀴, 사포 등을 사용하며 주로 수동으로 조작한다.회전체 표면과 같은 특수 부품은 회전판과 같은 보조 도구를 사용할 수 있다.

높은 표면 품질 요구에는 초정밀 광택을 사용할 수 있다.초정밀 광택은 전문적으로 설계된 연마 도구를 사용하여 연마제가 함유된 광택액에서 공작물의 가공 표면에 단단히 눌러 고속 회전 운동을 하는 것이다.이 기술을 이용하면 Ra0.008μm의 표면 거칠음을 구현할 수 있으며 다양한 광택 방법 중 가장 높다.이런 방법은 광학 렌즈 금형에 자주 사용된다.

화학포광

화학포광은 재료가 표면의 미세한 돌기 부분을 화학 매체에 우선적으로 용해시켜 매끄러운 표면을 형성하는 과정이다.이 방법의 주요 장점은 복잡한 장비가 필요하지 않고 모양이 복잡한 가공소재를 광택낼 수 있다는 것이다.그것은 동시에 많은 공작물을 효율적으로 광택낼 수 있다.화학 광택의 핵심 문제는 광택 용액의 제조이다.화학 광택을 통해 얻은 표면의 거친 정도는 보통 10μm의 수량급이다

전해포광

전해포광의 기본원리는 화학포광과 같으며 화학포광은 선택적으로 재료표면의 작은 돌기를 용해하여 표면을 매끄럽게 한다.화학 광택보다 음극 반응의 영향을 제거하고 더 나은 효과를 얻을 수 있습니다.전기화학 광택 과정은 두 단계로 나뉜다: 거시적 평평과 용해산물이 전해액으로 확산되어 재료 표면의 기하학적 거칠음이 낮아지고 Ra & gt;1μm。⑵저광급 평탄 양극 극화, 표면 밝기 증가, Ra <;1마이크로미터

초음파 광택

가공소재를 연마재 부유액에 넣고 초음파장에 함께 배치하여 초음파의 진동효과에 의거하여 가공소재 표면의 연마재를 연마하고 광택을 낸다.초음파 가공은 거시력이 작아 공작물의 변형을 일으키지 않지만 작업복을 제조하고 설치하기는 어렵다.

초음파 가공은 화학이나 전기화학 방법과 결합할 수 있다.용액의 부식과 전해를 기초로 초음파진동교반용액을 응용하여 공작물의 표면에 용해된 산물을 분리하고 표면부근의 부식이나 전해질이 균일하다.초음파는 액체 중의 공화 효과도 부식 과정을 억제할 수 있어 표면의 밝기를 증가시키는 데 유리하다.

유체 광택

유체 광택은 액체와 그가 가지고 있는 연마재 입자의 고속 흐름에 의존하여 공작물 표면을 세척하여 광택의 목적을 달성한다.흔히 볼 수 있는 방법은 연마재 분사 가공, 액체 분사 가공, 유체 동력학 연마 등이다. 유체 동력학 연마는 유압에 의해 구동돼 연마재 입자를 가진 액체 매체가 공작물 표면을 고속으로 왔다갔다하게 한다.매체는 주로 저압에서 량호한 류동성을 가진 특수화합물 (류중합물물질) 으로 만들어지며 연마재와 혼합되며 연마재는 탄화규소분말일수 있다.

자성 연마 광택

자성 연마재 광택은 자성 연마재를 이용하여 자장 작용하에 연마재 브러시를 형성하여 공작물을 연마하고 가공하는 것이다.이 방법은 가공 효율이 높고 품질이 좋으며 가공 조건을 통제하기 쉽고 작업 조건이 좋다.적합한 연마재를 사용하면 표면의 거칠음이 Ra0.1μm에 달할 수 있다이 방법에 기반한 기계적 광택: 플라스틱 몰드 가공에 사용되는 광택은 다른 산업에서 필요한 표면 광택과 크게 다릅니다.

엄밀히 말하면 금형광택을 거울가공이라고 해야 한다.광택 자체에 대한 요구가 높을 뿐만 아니라 표면 평평도, 매끄러움 및 형상 정밀도에 대한 높은 표준이 있습니다.표면 광택은 일반적으로 밝은 표면만 얻을 수 있다.거울 가공 기준은 AO=Ra0.008μm, A1=Ra0.016μm, A3=Ra0.032μm, A4=Ra0.063μm 등 네 단계로 나뉜다. 전해광택과 유체광택 등의 방법으로 부품의 기하 정밀도를 정확하게 제어하기 어렵고 화학광택, 초음파광택 등의 방법의 표면 품질 요구를 만족시킬 수 없기 때문에그러나 자력 연마 광택, 기계 광택은 여전히 정밀 금형 거울면 가공의 주요 방법이다.